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埃赛力达推出实用于340 nm
2025-02-12

本文援用地点:埃赛力达科技无限公司(Excelitas Technologies®)是一家翻新的努力于转变人们生涯的进步技巧供给商,为性命迷信、进步产业、下一代半导体、航空航天跟国防终端范畴的寰球著名品牌供给效劳。该公司近期推出了实用于252 mm中等焦距范畴的LINOS® UV F-Theta Ronar低释气透镜。新款LINOS F-Theta镜头专为共同埃赛力达 LINOS UV 扩束镜而计划,与传统产物比拟存在更优良的耐用性,可支撑激光资料加工中所需的更高的UV脉冲能量跟更短的激光脉冲,可普遍用于半导体、晶圆加工、电子表现器跟太阳能电池制作等范畴。该透镜经由过程明显增加帮助资料跟干净拆卸工艺,实现了优良的耐用性。其奇特的UV计划采取了高品德熔融石英透镜跟高端宽带透镜镀膜,不只确保了杰出的光学机能,另有效增加了背向反射。其优化的包装跟防尘资料进一步晋升了镜头的低释气机能。别的,埃赛力达还优化了出产、镀膜、物流、仓储跟拆卸流程,从泉源到制品全程下降传染危险,确保组件在全部任务流程中的高品质。重要规格跟特征:●   增加释气:采取进步的计划跟出产工艺,实现优良的低释气机能●   优化计划:实用于340 nm跟 360 nm紫外波长,采取高端宽带镀膜●   准确的扫描机能: 扫描场内的光斑尺寸变更较小,在10 mm扫描光圈下的扫描场范畴为 142 mm² x 142mm²米,15 mm扫描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm●   改良的处置才能:可应答高功率跟短脉冲利用需要●   临时光学稳固性:采取进步技巧制作,确保镜头的耐用性跟牢靠性●   优化背向反射:无效增加扫描仪镜面伤害,并延伸应用寿命●   M85x1机器接口:便于轻松集成到种种体系中“凭仗其翻新的增加释气计划跟扫描场内光斑尺寸变更,LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜从新界说了激光资料加工的光学机能跟牢靠性。咱们很愉快将这一处理计划归入LINOS F-Theta-Ronar产物系列中。”埃赛力达产物司理Matthias Koppitz表现

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